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化工級研磨分散機GM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。整機采用良好幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

三氧化二銻阻燃劑研磨分散機，SGN研磨分散機是上海思峻機械設(shè)備公司和德國SGN工程師合作研發(fā)的一款高科技產(chǎn)品，由膠體磨、分散機組合而成；是國內(nèi)較早一款將研磨和分散兩種功能結(jié)合的流體設(shè)備。

光觸媒涂料研磨分散機，光觸媒涂料應用中，一般需要將二氧化鈦光觸媒分散到涂料基料中，形成懸浮液，需要對光觸媒環(huán)保涂料體系進行研磨分散，結(jié)合多家客戶案例，推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機，兩級結(jié)構(gòu)，先研磨后分散，轉(zhuǎn)速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒徑小，均勻度高。

TiO2石墨烯復合材料研磨分散機，TiO2/石墨烯復合材料目前一般先有膨脹石墨制備石墨烯，然后再加入鈦源試劑，進過研磨分散設(shè)備分散而制成。推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機，兩級結(jié)構(gòu)，先研磨后分散，轉(zhuǎn)速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒徑小，均勻度高。

光催化劑超高速分散機，光催化材料應用中，一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中，形成懸浮液，需要對光催化劑體系進行研磨分散，使懸浮液（或乳化液）體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程，這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用，使得光催化劑產(chǎn)品更穩(wěn)定。

蠕蟲狀膨脹石墨研磨分散機，采用上海SGN技術(shù)，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。